Cum a reușit China să dezvolte un prototip de tehnologie EUV esențială pentru microcipuri AI, în ciuda restricțiilor occidentale? Proiectul Manhattan China a creat în 2025 în Shenzhen o mașinărie capabilă să producă microcipuri AI folosind litografie cu raze ultraviolete extreme. Această realizare marchează un pas crucial în competiția globală pentru dominația tehnologică.
Pe scurt:
- China a dezvoltat un prototip secret de mașinărie pentru microcipuri AI cu tehnologie EUV, esențială pentru inteligența artificială și echipamente militare.
- Prototipul, creat prin inginerie inversă de foști ingineri ASML, este în faza de testare și marchează un progres major în tehnologia semiconductorilor chinezești.
- China vizează producția de microcipuri avansate până în 2028, reducând dependența de importuri și consolidând poziția tehnologică globală.
- Restricțiile SUA și lipsa componentelor optice esențiale limitează performanța prototipului, dar proiectul continuă cu sprijinul Huawei și al guvernului chinez.
Proiectul Manhattan China și dezvoltarea microcipurilor AI cu tehnologie EUV
Într-un laborator secret din Shenzhen, cercetătorii chinezi au construit un prototip de mașinărie capabilă să producă microcipuri AI folosind tehnologie EUV, o realizare pe care Washingtonul a încercat să o împiedice. Acest dispozitiv este esențial pentru inteligența artificială, telefoanele moderne și echipamentele militare avansate.
Prototipul, finalizat în 2025 și aflat în faza de testare, a fost creat de o echipă de ingineri cu experiență la ASML, compania olandeză lider în tehnologia semiconductorilor. Aceștia au aplicat ingineria inversă pentru a reproduce sistemele de litografie cu raze ultraviolete extreme (EUV) dezvoltate de ASML.
Tehnologia EUV în centrul Proiectului Manhattan China
Mașinile EUV folosesc fascicule de lumină ultravioletă extremă pentru a grava circuite mult mai subțiri decât un fir de păr pe plăcuțele semiconductoare. Această tehnologie, monopolizată până acum de Occident, permite fabricarea de microcipuri cu performanțe superioare. Prototipul chinezesc produce raze ultraviolete extreme, însă nu a fabricat încă microcipuri, deoarece Beijingul trebuie să depășească obstacole tehnologice majore pentru a concura cu sistemele occidentale.
Existența acestui prototip indică faptul că China se apropie de capacitatea de a produce microcipuri performante, contrazicând estimările anterioare care plasau acest moment la mulți ani distanță.
Obiectivele Proiectului Manhattan China pentru microcipuri AI
Guvernul chinez și-a propus să producă microcipuri avansate până în 2028, iar primele rezultate concrete ale Proiectului Manhattan China sunt așteptate în jurul anului 2030. Capacitatea de a fabrica cipuri fără componente importate este o prioritate majoră pentru președintele Xi Jinping.
Proiectul este coordonat de Ding Xuexiang, lider al Comisiei Centrale pentru Știință și Tehnologie a Partidului Comunist, iar Huawei joacă un rol central în rețeaua de firme și institute implicate, care include mii de ingineri.
Provocările tehnologice și recrutarea experților ASML
ASML, singura companie care a dezvoltat tehnologia EUV, produce sisteme indispensabile pentru companii precum TSMC, Intel și Samsung. Aceste echipamente costă aproximativ 250 de milioane de dolari și sunt blocate pentru export în China din 2018, ca urmare a restricțiilor impuse de SUA.
China a recrutat foști ingineri ASML, oferindu-le bonusuri de până la 700.000 de dolari și subvenții pentru locuințe. Acești experți au folosit identități false pentru a proteja secretul proiectului din Shenzhen. Fără acești specialiști, realizarea prototipului prin inginerie inversă ar fi fost aproape imposibilă.
Prototipul chinezesc este mai mare și mai puțin performant decât sistemele ASML, în principal din cauza imposibilității de a obține componente optice esențiale, precum cele produse de Carl Zeiss AG. Cu toate acestea, dispozitivul funcționează suficient pentru a fi testat și reprezintă un pas important în dezvoltarea tehnologiei EUV în China.
Noa Insight
Într-un laborator secret din Shenzhen, China a dezvoltat un prototip de mașinărie pentru producerea microcipurilor AI folosind tehnologie EUV, o tehnologie occidentală blocată prin restricții de export. Proiectul implică ingineri recrutați de la ASML și este coordonat de Comisia Centrală pentru Știință și Tehnologie a Partidului Comunist.
Implicații
Prototipul chinezesc marchează un progres tehnologic important, indicând apropierea capacității de a produce microcipuri performante intern, în ciuda limitărilor privind accesul la componente esențiale și restricțiile impuse de SUA.
Elemente-cheie
- Tehnologia EUV utilizează fascicule de lumină ultravioletă extremă pentru a grava circuite foarte subțiri pe plăcuțele semiconductoare.
- Prototipul chinezesc este în faza de testare și nu a produs încă microcipuri, fiind mai mare și mai puțin performant decât sistemele ASML.
- Inginerii recrutați de la ASML au folosit ingineria inversă și identități false pentru a dezvolta prototipul în cadrul proiectului secret din Shenzhen.
Sursa originală a acestui articol este https://www.digi24.ro/stiri/externe/ce-este-proiectul-manhattan-al-chinei-programul-secret-cu-care-xi-jinping-vrea-sa-rescrie-cursa-globala-pentru-microcipurile-ai-3552291 (link)






